电解质等离子抛光机床简介-兰州理工大学温州泵阀工程研究院

电解质等离子抛光机床，异于国内机械抛光、化学处理抛光、超声抛光、流体或磁研磨抛光，它是在引进白俄罗斯国立科学技术大学的相关技术基础上研制而成，具有传统抛光方法无法比拟的优势。

（1）抛光精度高，粗糙度（Ra）达到0.2~0.01 μm；

（2）加工范围广，可对铁类（钢）、铜类（黄铜、青铜）、铝类以及其它有色金属和难熔性金属材料的零部件进行抛光，也可以对金属表层结构进行除锈、去油污、去毛刺等；

（3）环保性好，电解液盐浓度很低，酸碱化小，且排放量小，属于绿色工艺。

主要技术指标

1、电源：直流电

2、电源频率：50 Hz

3、最大功率：< 50kW

4、加热功率：48kW

5、加热温度：室温至100 ℃可调

6、空气温度：5-40 ℃

7、相对温度：< 80 %

8、噪声：符合工业卫生标准，低于70分贝

9、最大电流：167 A

10、最佳工作温度：80~90 ℃

11、电压：变压器为300 V、330 V，可控硅为0~50 V

12、上箱容积：1150×880×500 mm、下箱容积：1150×880×500 mm

13、最大抛光面积：338 cm²

14、升降系统：伺服电机控制，最大行程：300 mm

15、触摸屏：15英寸，含PLC模块

16、使用介质：专用抛光盐。