双辉光离子渗扩炉是在单辉光离子炉的基础上，增加一个源极，以炉体为阳极，被处理工件为阴极进行离子扩渗。在阴阳极间加上数百伏的直流电压，已离子化了的气体成分被电场加速，撞击被处理工件表面而使其加热，依靠溅射及离子化作用进行渗氮、渗碳处理。也可以利用辉光放电所产生的离子轰击，使源极固态合金元素被溅射到气体的空间，为表面合金化提供合金元素，从而达到工件表面合金化的目的。
设备主要性能指标和技术参数
1、炉体规格及技术参数
极限真空度：≤6.7 Pa
压升率：≤7.8 Pa/h
常用工作温度：550-850 ℃
最高工作温度：1200 ℃
2、电气控制系统主要技术参数
输出电压：0-1000 V连续可调
脉冲频率：20kHz
控制方式：定频调宽
输出波形：矩形方波
灭弧速度：≤2 us
占空比：0-85 %连续可调
温度控制方式及精度：在触摸屏上预置温度、自动控制、精度±1 ℃
压力控制方式及精度：在触摸屏上预置压力、自动控制、精度±1 Pa
流量控制方式及精度：在触摸屏上预置流量、自动控制、精度±0.5%
源极电源：双辉离子渗扩炉源极电源的选择一般比阴极电源功率略大或等同于阴极电源。
双辉光离子渗扩炉
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