镀膜装置蒸发源发射形态与膜厚分布-兰州理工大学温州泵阀工程研究院

镀膜装置蒸发源发射形态与膜厚分布

【作者】徐树深；梅丽文；张建光；

【机构】兰州理工大学温州泵阀工程研究院；浙江好事达阀业有限公司；

【摘要】蒸发源是真空镀膜装置中一个非常重要的部件。在多个蒸发源共存的装置中,如何在设计中正确选择蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间的距离就显得尤为重要,它直接关系到基板涂层均匀性。本篇文章根据蒸发源与基片之间的物理联系入手,分析基片--蒸发源距离对基片涂层均匀性的影响,进而对蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间距离的确定,提出了自己的一些观点和看法。

【关键词】真空镀膜；基片；蒸发源；距离

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