专利号:CN202010084685.8
摘要:本发明提供了一种碳基复合薄膜及其制备方法,属于表面工程领域。本发明以碳靶和金属碳化物靶为溅射靶材,基于闭合场非平衡磁控溅射等离子体空间分布特点及样品转架转速对薄膜结构的影响规律,仅通过样品转架旋转“快‑慢”的周期性控制,在沉积过程中自发形成兼具纳米层结构和纳米复合结构的双结构的碳基复合薄膜,碳靶和金属碳化物靶在真空腔体中相对放置,当转架转速快时,沉积出具有纳米复合结构的复合薄膜,当转架转速慢时,沉积出具有纳米多层结构复合薄膜,通过转架转速的调节可实现纳米复合结构中纳米晶的尺寸和纳米多层结构中的调制周期,通过控制样品转架转速周期性调节的时间可实现纳米复合结构层和纳米多层结构层的厚度。
