提高靶材利用率的水冷式电弧蒸发组件
一、技术领域
本实用新型涉及一种离子镀膜装置的水冷电弧蒸发组件技术领域。
二、背景技术
电弧离子镀膜技术是现代材料表面技术中的一个重要组成部分。电弧蒸发组件中贵金属靶材则是个消耗件,所以靶材的利用率是电弧蒸发组件性能优劣的一个重要指标。
目前,国内电弧离子镀装置电弧蒸发组件中:1.需在靶材一端打孔加工与组件连接的大直径内螺纹,由于内螺纹的存在降低了靶材利用率;2.靶材冷却水进水没有直接引射到靶材上,导致靶材冷却效率降低;3.没有靶材消耗后的顶推补偿机构,导致靶材消耗后引弧杆与靶面距离增大且调整困难;4.靶面的磁场强度调节范围较小。
三、发明内容
本实用新型的目的在于针对现有技术中的缺陷而提供的一种直冷式电弧蒸发组件。通过改进水冷电弧蒸发组件结构,来有效解决靶材利用率低、靶材消耗后的顶推补偿和靶材在电弧放电中的充分冷却和靶材表面磁场强度的调节。