1、技术原理及特点 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术是在真空条件下,采用物理方法将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD技术可以在球阀表面沉积多种金属(Ti、Zr、Cr、W等)的碳化物和金属(Ti、Zr、Cr等)的氮化物以及其它二元或多元合金的氮化物、碳化物纳米化涂层,这些薄膜普遍具有高硬度、高耐磨性、耐腐蚀性和抗高温性。 2、关键技术及指标
对比项目 |
喷焊镍基合金 |
喷涂碳化钨 |
国外复合涂层 |
PVD复合涂层 |
硬度 |
650 HV |
1200 HV |
1600 HV |
2000 HV |
厚度 |
≥1000μm |
≥200μm |
≥150μm |
≥150μm |
涂层结合强度 |
优 |
差 |
良 |
良 |
耐蚀性 |
优 |
一般 |
优 |
优 |
最高使用温度 |
425℃ |
350℃ |
400℃ |
650℃ |
变形量 |
大 |
大 |
- |
小 |
本成果利用自主设计研发的超硬耐蚀镀膜装置,运用PVD工艺在球阀球体及其它阀门密封构件表面制备TiN或CrN、ZrN等超硬耐蚀涂层,改善其表面综合物理特性,使其具有更高的硬度和耐磨性,以及低摩擦系数和良好的化学稳定性,且无需二次加工,能够大大提高阀门产品的使用寿命。与国内外不同工艺涂层性能指标对比如下表所示。 |